Tratamento térmico de Zamac para produção de Zno

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Marcelo Ventorini Maier¹, Sandra Raquel Kunst², Guilherme José Schneider¹,
Fernando Dal Pont Morisso¹, Cláudia Trindade Oliveira¹



¹Universidade Feevale, ICCT, endereço institucional (Rod. RS239, n.2755, Bairro Vila Nova), Novo Hamburgo, Rio Grande do Sul, Brasil. 

²LACOR - PPGE3M, Universidade Federal do Rio Grande do Sul – UFRGS, Avenida Bento Gonçalves, 9500, Porto Alegre, RS, Brasil. 

E-mail: celo_maier@hotmail.com, tessaro.sandra@gmail.com, morisso@feevale.br, cto@feevale.br

 

RESUMO

A demanda por energias limpas vem se tornando cada vez mais crescente. Nesse contexto a produção de hidrogênio por meio da separação fotocatalítica da água tem se mostrado promissor, uma vez que não utiliza resíduos fosseis. Nesse processo, semicondutores que apresentam um intervalo de banda de energia maior que intervalo das reações de oxirredução da água, tem sido os mais adequados para a produção de hidrogênio. Entre os semicondutores, cita-se o ZnO, que é mais barato em comparação ao titânio, por exemplo. Uma alternativa para a produção de ZnO seria por meio de tratamento térmico em Zamac. O Zamac é uma liga metálica composta por zinco (Zn), alumínio (Al), magnésio (Mg) e cobre (Cu), com fácil produção, devido seu baixo ponto de fusão (400ºC), comparado a outros metais. Com isso o objetivo desse trabalho é verificar se é possível a obtenção de ZnO por meio de tratamento térmico em Zamac. As amostras foram avaliadas com respeito à morfologia por meio de Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV) e do estéreo microscópio, molhabilidade pelo método da gota séssil e irradiação UV-VIS através do espectofotômetro. As análises de morfologia e microestrutura não mostraram variação entre as amostras sem e com tratamento térmico. No entanto, os testes de molhabilidade mostraram características hidrofóbicas com o tratamento térmico e as medidas de UV-VIS, apontam para um comportamento semicondutor destas amostras. Portanto, amostras de Zamac tratadas termicamente podem ser uma alternativa promissora para produção de hidrogênio.

Palavras-chave: Hidrogênio. Semicontudor. ZnO. Tratamento térmico.

 

1. INTRODUÇÃO 

A produção de hidrogênio vem ganhando destaque mundial, incentivando a pesquisa nessa área, devido à grande possibilidade de aplicação, principalmente como energia renovável [1]. Isto deve-se principalmente a este elemento químico possuir uma alta taxa de combustão por unidade de peso, do que qualquer outro combustível, e duas a três vezes mais energia, sendo atualmente utilizado como combustível dos ônibus espaciais da NASA. Também apresenta uso em célula a combustível, gerando uma energia limpa, não poluente, sem resíduos prejudiciais, com emissão de água [2]. O hidrogênio é um elemento abundante na natureza, compreendendo cerca de três quartos da massa do universo, é encontrado na água, o que equivale a 70% da superfície da terra. Este elemento é o mais leve em comparação aos outros elementos e 14 vezes mais leve que o ar, portanto, em um vazamento, o gás hidrogênio imediatamente se mistura ao ar, não poluindo o meio ambiente [3,4].


A produção de hidrogênio pode ser feita a partir de combustíveis fosseis, como craqueamento térmico de gás natural, oxidação de hidrocarbonetos e reforma catalítica do gás natural (cerca de 90% de como é utilizado hoje). Porém, a desvantagem destes meios é a emissão de CO2, não se caracterizando como fonte renovável. Para se obter somente hidrogênio puro, é necessário um meio para separá-lo de outros elementos, como a fotocatálise da água, por exemplo, que ativa o semicondutor com luz solar ou artificial, sendo considerada uma maneira renovável para a produção deste elemento [5,6,7].


No processo fotocatalítico da água, a separação das moléculas de hidrogênio e oxigênio (H2O) é feita por um semicondutor ativado por luz solar ou artificial. Nesse contexto, o ZnO poderia ser usado como semicondutor, pois além de ser mais barato em comparação ao TiO2 e ao Nb2O5, apresenta intervalos de banda de condução e de valência que incluem os intervalos de energia das reações de oxirredução da água, teoricamente favorecendo a reação de desprendimento de hidrogênio [8,9,10].


Uma alternativa para a produção de ZnO seria por meio de tratamento térmico em Zamac, o que é de extrema importância para o setor calçadista, em que o emprego do Zamac é bastante expressivo. O Zamac é uma liga metálica composta por zinco (Zn), alumínio (Al), magnésio (Mg) e cobre (Cu), com fácil produção, devido seu ponto baixo ponto de fusão (400ºC), comparado com outros metais [11]. Peças em Zamac são obtidas principalmente por meio de injeção sob pressão, o que seria outra vantagem na produção de hidrogênio, uma vez que este processo gera porosidades nas peças, aumentando, portanto, a área superficial para a reação de desprendimento de hidrogênio. Salienta-se também o baixo custo do Zamac, tornando a produção de hidrogênio em superfície de Zamac tratado termicamente um excelente custo-benefício [12,13,14].


Portanto, levando em consideração o intervalo de energia do óxido de zinco favorece a produção fotocatalítica da água, este trabalho tem como objetivo verificar se é possível a produção de ZnO através de tratamento térmico em Zamac e se o óxido produzido se assemelha ao produzido em zinco, com respeito a banda de energia. 

2. PROCEDIMENTOS EXPERIMENTAIS

2.1  Preparação das amostras para análise

As amostras utilizadas para realização deste trabalho foram doadas pela Empresa Celsus Metalúrgica, situada em Novo Hamburgo, Rio Grande do Sul. A análise de composição química das amostras foi obtida pelo método de espectroscopia de absorção atômica, cujos valores estão apresentados na Tabela 1.

Tabela 1. Composição química do Zamac 5.

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Os valores de composição química confirmam que a liga utilizada neste trabalho se trata de Zamac 5 e está de acordo com os valores encontrados por Kunst et.al. [15]


Amostras de Zamac 5 foram lixadas com lixas SiC na seguinte sequência: # 200, 400, 600, 800, 1200, 2400 e 4000, e polidas com alumina até aspecto espelhado, com uso de politriz de rotação variável, marca Pantec. Depois da preparação da superfície, as amostras foram mapeadas (termo utilizado representando as imagens realizadas na mesma região das amostras) em estereomicroscópio da marca ZEISS Stemi 508 para verificação da porosidade das mesmas, antes e após o tratamento térmico.

2.2 Tratamento térmico

Depois de mapeadas por meio de estereomicroscópio, as amostras foram tratadas termicamente, por meio de recozimento e normalização, sendo novamente mapeadas. Para tanto, foi utilizado um forno da marca Sanchis. As amostras foram aquecidas dentro do forno na temperatura de 210°C por tempos de 5, 30 e 60 minutos, sem controle da atmosfera. Estas amostras foram resfriadas dentro do forno para recozimento e resfriadas ao ar para normalização. O objetivo deste processo foi a obtenção de óxidos na superfície do Zamac 5. 


A Tabela 2 mostra a nomenclatura utilizada para identificação das amostras de acordo com o tratamento térmico. A identificação da nomenclatura utilizada nas amostras é Z – Zamac, R – recozimento, N – normalização, seguida de números que indicam o tempo de tratamento térmico e quantidade de amostras.

Tabela 2. Nomenclatura das amostras de Zamac 5 tratadas termicamente na temperatura de 210 º C.

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2.3 Análise da microestrutura do Zamac 5 ao Microscópio Eletrônico de Varredura

Após o tratamento térmico, foi realizado ataque químico nas amostras para revelar a microestrutura e posterior análise ao Microscópio Eletrônico de Varredura (MEV). Para as análises ao MEV, as amostras foram metalizadas com alvo de ouro para condução elétrica e obtenção de imagens. A camada deve ser contínua e fina (menor do que 20 nm) para evitar o acúmulo de carga negativa e não mascarar a topografia da superfície [16]. Após a metalização, as amostras foram analisadas quanto à morfologia em vista de topo, antes e após os tratamentos térmicos. O objetivo desta análise foi verificar se houve mudança na microestrutura com os tratamentos térmicos, o que pode influenciar nas medidas de molhabilidade e de UV-Vis.


O equipamento MEV utilizado para análise foi o modelo JSM-6510LV da marca Jeol, disponível na Universidade Feevale, no Laboratório de Estudos Avançados em Materiais.

 

 

2.4 Análise de molhabilidade das amostras de Zamac 5 tratadas termicamente

Para análise de molhabilidade foi utilizado equipamento para medição do ângulo de contato, OCA 15EC, marca Labcontrol. Nesta análise foi utilizada uma seringa com agulha de 0,4 mm e o fluido utilizado foi a água deionizada, depositando 8,3 L com vazão de 2,0 L/s. O ensaio foi realizado em triplicata e a aquisição de dados foi feita através do Software SCA20_U, da Dataphysics Instruments.

2.5 Espectrográfia UV e visível das amostras de Zamac 5 tratadas termicamente

Para os testes de absorção e reflexão das amostras de Zamac 5 em radiação UV e/ou visível, foi utilizado o equipamento espectrofotômetro, modelo Lambda 265, marca PerkinElmer. Por meio desta análise pode-se identificar a quantidade de radiação absorvida ou refletida pela amostra, que é devidamente colocada no caminho ótico do aparelho, em que se obtém os valores de absorbância por meio de um comprimento de onda. A fim de comparar as características dos óxidos formados nas amostras de Zamac 5 por meio de tratamento térmico, foram criadas três pastilhas sólidas contendo 100% ZnO, 100% Al2O3, e 50% ZnO + 50% Al2O3 compactadas com uma prensa, marca Specac com uma carga de 12 toneladas.
 

3. RESULTADOS E DISCUSSÕES

3.1 Análise das superfícies das amostras

As amostras de Zamac foram analisadas por meio do estéreo microscópio antes do tratamento térmico e após o tratamento térmico, conforme Figura 1.

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Figura 1: Fotomicrografia de Zamac 5 antes e após o tratamento térmico em escala de 1000 µm.

Observa-se nas imagens das amostras sem tratamento térmico a presença de defeitos de porosidade devido ao processo de injeção sob pressão [13]. Nas imagens das amostras com tratamento térmico também se observam os mesmos defeitos, não mostrando diferença entre as imagens com o tratamento térmico e com o tempo de tratamento. Esperava-se que houvesse alguma mudança superficial nas amostras, uma vez que optou-se por utilizar uma temperatura próxima ou abaixo da temperatura de fusão do Zamac. Além disso, a temperatura escolhida foi abaixo daquela utilizada por Hu et al. [17], que foi de 250°C, com a finalidade de evitar aumento de volume dos poros ocasionado pelo aumento da pressão interna que, de acordo com os autores, ultrapassou o limite de elasticidade do material, aumentando a bolha causada no processo de injeção sob pressão. A diferença de coloração entres as imagens das amostras sem tratamento e com tratamento é um efeito de ajuste do microscópio, pois não se observou variação de coloração a olho nu nas amostras após tratamento térmico. Além disso, cabe salientar que não é possível afirmar de acordo com as imagens da Figura 1, que houve a formação de óxido.

3.2 Análise da microestrutura por microscopia eletrônica de varredura 

As Figuras 2, 3, 4 e 5 mostram a microestrutura do Zamac 5 sem e com tratamento térmico. Observa-se que a amostra ZST (Figura 2) apresentam uma região de solução sólida característica da fase  e uma região eutética. Isto está de acordo com a microestrutura esperada para o Zamac. O tamanho do grão se assemelha ao citado na literatura Führ [12], característico de peça injetada sob pressão.

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Figura 2: Micrografia das amostras de Zamac 5 sem tratamento térmico com aumento de 2000x e 5000x.

Os tratamentos térmicos de recozimento e normalização em 5 min (ZR5 e ZN5), Figura 3, parecem não influenciar na microestrutura do Zamac 5, uma vez que não se observam diferenças nas microestruturas das amostras.

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Figura 3: Micrografia das amostras de Zamac 5 com tratamento térmico por 5 min.

Nas amostras tratadas termicamente por 30 min., Figura 4, novamente não se observam diferenças entre os tratamentos de recozimento e normalização. No entanto, o tratamento térmico de 30min parece ter aumentado o tamanho do grão e a quantidade de fase eutética em comparação às demais amostras, incluindo aquelas tratadas em 60 min., Figura 5, que apresenta comportamento semelhante às amostras sem tratamento e tratadas por 5 min, Figura 3.

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Figura 4: Micrografia das amostras de Zamac 5 tratadas termicamente por 30 min. com aumento de 2000x e 5000x.

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Figura 5: Micrografia das amostras de Zamac 5 tratadas termicamente por 60 min. com aumento de 2000x e 5000x.

3.3 ANÁLISE E MOLHABILIDADE

 

Na Figura 6 estão dispostas as imagens de Zamac 5 com e sem tratamento térmico obtidas pelo método da gota séssil e os valores de ângulo de contato esquerdo e direito que estão disponíveis na Tabela 3.

Tabela 3. Valores dos ângulos de contato das amostras de Zamac 5.

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Figura 6: Ângulos de contato das amostras de Zamac 5 sem e com tratamento térmico.

Normalmente as medidas de ângulo de contato são mostradas de acordo com a média entre os valores de ângulo de contato medidos à esquerda e à direita da gota. No entanto, como houve variação entre os ângulos, optou-se por mostrar os dois valores. Na Tabela 3, foram medidos os ângulos de contato à esquerda e à direita da gota. A amostra ZST apresenta um comportamento hidrofílico com ângulo de contato esquerdo exatamente de 68,1 º e ângulo de contato direito aproximadamente de 67,8 º. Observa-se que o tratamento térmico nas amostras aumentou o ângulo de contato em mais de 10º. Apesar das imagens de mapeamento mostrarem que não houve mudança significativa na superfície das amostras, o aumento do ângulo de contato é um indicativo de que houve formação de óxido na superfície do Zamac 5 com o tratamento térmico.


De acordo com os valores da Tabela 3 aparentemente não existe diferença entre os tratamentos térmicos de recozimento e normalização, pois não se observa variação significativa entre os ângulos.
Por outro lado, a amostra de 5 minutos, ZR5.1 apresentou o maior ângulo de contato e houve diferenças entre as medidas de ângulo de contato esquerdo e direito. Este era um comportamento que não era esperado, pois a confiabilidade da medida encontrada, está na mínima diferença entre os ângulos obtidos. Nesse caso como a amostra foi lavada e secada antes do teste da molhabilidade, supõe-se que tenha ficado “umidade” dentro dos poros, portanto o teste molhabilidade foi repetido nas mesmas amostras completamente secas, conforme Figura 7 e os valores demonstrados na Tabela 4.

Tabela 4. Valores dos ângulos de contato das amostras de Zamac 5 após lavagem completa.

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Figura 7: Ângulos de contato das amostras de Zamac 5 sem e com tratamento térmico, após secagem completa.

Na tabela 4 observa-se que a amostra ZST apresentou um comportamento hidrofílico com ângulo de contato esquerdo exatamente de 53,6º e ângulo de contato direito aproximadamente de 54,7º. Observa-se que as amostras com tratamento térmico tiveram um aumento significativo de mais de 40º aproximadamente, diferentemente do observado nas amostras lavadas, em que o aumento do ângulo de contato foi de somente 10º. Isto indica que o aumento do ângulo de contato pode ser devido a alguma modificação superficial no Zamac 5 devido ao tratamento térmico, como possivelmente a formação de óxido.


Observa-se que a amostra ZR60.2 apresentou o maior ângulo de contato, porém não houve diferença significativa entre as amostras tratadas por recozimento ou normalização.
Pode-se dizer que o teste de molhabilidade realizado com as mesmas amostras lavadas e completamente secas apresentam alteração nos resultados. Isto ficou evidente nos valores da tabela 4, em que as amostras de Zamac 5 apresentam um comportamento hidrofóbico com ângulos de contato acima de 90º após tratamento térmico [18].

Para melhor visualização dos resultados, os valores das Tabelas 3 e 4 foram plotados no gráfico da Figura 8.

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Figura 8: Ângulos de contato das amostras de Zamac 5 após lavagem e secagem (Molhado) e completamente secos (Seco).

A Figura 8 permite observar graficamente a variação entre os ângulos medidos em função da preparação da amostra. Como se observou um comportamento bastante distinto entre as amostras lavadas e secas (Molhado) e as completamente secas (Seco), as amostras ZN30 e ZR5.2 foram lavadas, secadas e colocadas em estufa em alto-vácuo por 1 hora e medidas novamente com respeito à molhabilidade conforme Tabela 5.

Tabela 5. Valores dos ângulos de contato das amostras lavadas e secas em alto-vácuo.

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Nota-se que os valores se assemelham àqueles da Tabela 4, concordando com a hipótese de que tenha ficado “umidade” dentro do poro. 


Apesar de não ter ocorrido diferença significativa entre as micrografias das amostras observadas ao MEV, os ângulos de contato indicam a presença da formação de óxido ou algum composto formado na superfície.
 

3.4 Análise de UV – VIS

A Figura 9 mostra o espectro de UV-Vis de absorbância das amostras de Zamac 5 sem e com tratamento térmico.

Para efeito de comparação das características apresentadas, uma amostra de ZnO puro, uma amostra de Al2O3 puro e uma amostra contendo 50% de ZnO e Al2O3 foram feitas em laboratório e analisadas por meio de UV-VIS.

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Figura 9: Espectro UV-VIS das amostras de Zamac 5 sem e com tratamento térmico e de amostras de ZnO, Al2O3 e ZnO + Al2O3.

Todas as amostras apresentam um pico inicial na faixa de 224 nm e novos picos foram identificados com o tratamento térmico. 


A amostra ZST sem tratamento térmico, apresenta o pico máximo na faixa de comprimento de onda de 224 nm.


As ZR5.1, ZR5.2 e ZN5 apresentam um começo de pico em 244 nanômetros. Estudos realizados em diferentes óxidos de cromo mostraram que existe variação do espectro para os picos de 337 nm, 297 nm, e 244 nm [19]. Portanto, supõe-se que o tratamento térmico pode ter formado alguma variação estequiométrica do óxido de zinco ou de alumínio, que são os elementos químicos majoritários do Zamac.


As amostras ZR30.2 e ZN30 apresentaram um comportamento semelhante às ZR5.1, ZR5.2 e ZN5, no entanto, a amostra ZR30.1 apresenta um deslocamento deste pico para 314 nm e uma diminuição de absorção no pico de 224 nm. Isso indica novamente que existe a formação de um provável óxido com estequiometria diferente do ZnO ou Al2O3.


As amostras ZR60.1, ZR60.2 e ZN60, apresentam um comportamento também semelhante com comprimentos de onda, 301 nm, 282 nm, e 249 nm. Portanto, não se pode afirmar que existe variação do tratamento térmico de normalização ou recozimento ou influência do tempo de tratamento térmico.
Conforme demonstrado na Figura 9, o pico de absorbância negativa ou luz refletida representada no comprimento de onda de 387 nm é característico do ZnO, o qual não foi identificado nas amostras de Zamac 5. Neste caso, pode-se interpretar que com o tratamento térmico das amostras de Zamac 5, não houve a formação de ZnO, ou possivelmente pode ter ocorrido a formação em algum outro óxido de zinco com diferente estequiometria comparado ao ZnO. 


No estudo realizado pelo [19], os autores mencionam que os óxidos de cromo com estequiometrias variadas apresentam picos em uma faixa de comprimento de onda variada. Em um estudo realizado por Oliveira et al. [20], os autores mencionam que pó de ZnO nanoestruturado mostrou uma absorção na faixa de 200 nm a 380 nm. Portanto é possível fazer uma analogia a estes trabalhos supondo que o zinco também forme óxidos de estequiometria variada os quais se situam na faixa de 224 a 387 nm. 


Para melhor exemplificar a Figura 10, detalha o deslocamento do pico máximo do Zamac 5 sem e com tratamento térmico. 

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Figura 10: Espectro UV-VIS mostrando o pico máximo das amostras de Zamac 5 sem e com tratamento térmico.

Os valores de pico máximo de absorbância em comprimento de onda obtidos por meio do gráfico da Figura 10 são mostrados na Tabela 6, bem como os valores de Energia de banda calculados.

Tabela 6. Comprimento de onda e energia das amostras. 

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Por meio da equação (1) e com uso do aplicativo Wavelength – Energy Converter, o comprimento de onda das amostras foi convertido em energia em eV (eletron volts).

Em que:
E é a energia em eV;
h é a constante de plank;
c é a velocidade da luz;
λ é o comprimento de onda. 


De acordo com a Tabela 6, os valores de energia das amostras encontram-se na faixa de 5 eV (com exceção das amostras tratadas em 60°C) com características mais próximas de materiais isolantes, que possuem energia da banda acima de 4,5 eV do que semicondutores que se encontram na faixa abaixo de 4,5 eV. 


Já para as amostras tratadas a 30 minutos, os valores de banda se assemelham ao de semicondutores, por exemplo ZnO, em que a energia de banda é de 3,2 eV, que corresponde ao comprimento de onda de 387 nm [21]. Apesar disso, não se pode afirmar que houve a formação de óxido de zinco ou de alumínio, uma vez que os espectros de UV-VIS não mostram comportamento semelhante às das amostras de ZnO e Al2O3, ou da mistura entre as amostras.


No entanto, observa-se que houve uma modificação superficial nas amostras com o tratamento térmico, o que foi evidenciado nos resultados de molhabilidade e de UV/VIS. 


Uma provável hipótese para explicar este comportamento seria a formação de algum produto de corrosão proveniente do zinco, que é o elemento químico majoritário no Zamac 5. Como as amostras foram tratadas termicamente em atmosfera ao ar (sem vácuo) é possível que tenha se formado Hidróxido de Zinco. Neste caso, sugere-se um estudo mais aprofundado de oxidação de zinco em alta temperatura.
Por outro lado, a temperatura utilizada pode ter induzido à mudança na microestrutura do Zamac, pois o alumínio forma solução sólida com o zinco na fase n e, devido ao envelhecimento ou o aquecimento em baixa temperatura, o alumínio precipita a partir do zinco dentro da solução sólida, o que também pode ter influenciado o deslocamento das curvas para maior comprimento de onda. Além disso, os tratamentos térmicos podem ter provavelmente induzido, ao alívio de tensões, o que pode também ter influenciado nos resultados de molhabilidade. 


No estudo realizado por DÍAZ et al., [22] os autores demonstraram que o Zamac recozido em 250º C por duas horas, apresentou a formação de ZnO, o que indica que seria necessário neste trabalho o aumento de temperatura e de tempo de recozimento.

4.  CONCLUSÃO


Este trabalho teve como objetivo verificar a produção de óxido de zinco e sua característica semicondutora, e tem como principais conclusões os itens descritos a seguir:


As imagens obtidas por estéreo microscópio não mostraram diferenças significativas na superfície das amostras antes e após o tratamento térmico.


Do mesmo modo, não se observou alteração na microestrutura do Zamac 5 tratado termicamente.


As análises de molhabilidade mostraram características hidrofóbicas para as amostras tratadas termicamente em comparação às amostras não tratadas, o que mostra uma alteração nas superfícies. No entanto os resultados demonstram que não houve diferença nos tratamentos térmicos de recozimento e normalização.


A análise de irradiação UV-VIS mostra que a maioria das amostras (incluindo as amostras sem tratamento térmico) apresentam o pico máximo de energia localizado em 224 nm, o que corresponde a um intervalo de banda de energia de 5,53 eV. Isto significa que estas amostras apresentam características semelhantes a de materiais isolantes do que semicondutores. No entanto, as amostras tratadas por 60 min. mostram um intervalo de banda de energia próximo ao de semicondutores. 


Os resultados de molhabilidade de UV-vis apontam para uma modificação superficial no Zamac 5. 


Finalizando, o tratamento térmico utilizado neste trabalho pode não ter sido o mais adequado para a produção de ZnO em Zamac 5, mas aponta uma alternativa para obtenção deste óxido, tornando-se, portanto promissor para a obtenção de semicondutor que futuramente poderá ser utilizado na produção de hidrogênio.

4.  AGRADECIMENTOS


O presente trabalho foi realizado com o apoio da Capes, entidade do governo brasileiro focada na formação de recursos humanos. Os autores também agradecem ao apoio financeiro de agências brasileiras: CNPq e FAPERGS.
 

5.  BIBLIOGRAFIA

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[19] COSTA, L.S., PEREIRA, F.R.S., FARIAS, R.F., CLAUDECE, P.F., “Avaliação Espectrofotométrica Das Formas CR+3, CRO4 -2 e CR2O7 -2 ”, Departamento de Química, Rio Grande do Norte, v. 35, n. 3, 2010.


[20] OLIVEIRA, L.S., SÁNCHEZ, F.A.L., TAKIMI, A.S., “Avaliação da absorção da radiação ultravioleta e da atividade fotocatalítica de nanoestruturas aciculares de óxido de zinco”, In: UNIVERSIDADE FEDERAL DO RIO GRANDE DO SUL, ESCOLA DE ENGENHARIA, DEPARTAMENTO DE ENGENHARIA DE MATERIAIS, LABORATÓRIO DE MATERIAIS CERÂMICOS., 1., 2018, Porto Alegre.


[21] MAYRINCK, C., et al., “Síntese, Propriedades e Aplicações de Óxido de Zinco Nanoestruturado”. In: Revista Virtual de Quimica, v. 6, n. 5, pp.1185-1204, Out. 2014.


[22] DÍAZ, D.J., et al., “Caracterización electroquímica de películas de óxido de zinc obtenidas por anodizado en medio alcalino”. In: Revista Materia, v. 23, n. 2, 2018.

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